投影光刻機曝光光學(xué)系統(tǒng)研發(fā)及批量生產(chǎn)基地項 DATE: 2022-12-23 11:14
國望光學(xué)研發(fā)生產(chǎn)基地位于北京經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)，規(guī)劃建筑面積12萬平方米，預(yù)計2023年投入運行后，將擁有350/280nm節(jié)點、90/110nm節(jié)點、28nm及以下節(jié)點極大規(guī)模IC制造投影光刻機曝光光學(xué)系統(tǒng)產(chǎn)品的研發(fā)、設(shè)計與批量生產(chǎn)供貨能力。國望光學(xué)基本定位是建立我國自主的超精密光學(xué)產(chǎn)業(yè)技術(shù)研發(fā)與生產(chǎn)體系，形成極大規(guī)模IC制造投影光刻機曝光光學(xué)系統(tǒng)、高端精密光學(xué)儀器與裝備的批量生產(chǎn)供貨能力，從根本上解決我國IC制造投影光刻機曝光光學(xué)系統(tǒng)及高端精密光學(xué)裝備的產(chǎn)業(yè)化問題。